薬品

テクニック社は、1945年に米国東海岸のロードアイランド州を中心とする装飾めっき業界向けに、貴金属めっき薬品を供給することからスタートしました。その後の電子産業の急速な発達と共に、今日ではセミコンダクター向け各種めっき薬品をはじめ、PCB、コネクター、その他電子部品等の表面処理に関わる多様な薬品をカバーする、総合表面処理薬品メーカに成長することが出来ました。本ホームページではテクニック社の膨大な薬品群から抜粋して概略を御紹介いたします。なお、抜粋中にご要望のプロセス或いは薬品が見当たらない場合或いは開発が必要な場合はinfo@technic-japan.co.jp或いは資料請求フォームにてご連絡下さい。


1.クリナー(抜粋)

製品名

素材

処理法

性状

用途と特徴

TEC1001

銅、真鍮、鉄

電解

高伝導性クリナー、軽い汚れの除去。

TEC1002

金属全般

電解、浸漬

強アルカリ性粉末

汚れ全般の除去。

TEC1004AD

銅、真鍮、鉛、鉛錫合金、鉄

PR電解、浸漬

強アルカリ性粒

長寿命。低温処理。活性化と同時にスマット、サビ、熱スケール及びバフカスの除去。

TEC1005

電解

高速、高導電性デイスケール剤。

TEC1008

銅、真鍮

浸漬、電解

リン−アルカリ

水洗が簡単なクリナー。

TEC1010LF

鉄、銅、真鍮

電解

リン−アルカリ

低発泡。酸化物、オイル及びバフカスの除去。

TEC1011

鉄、銅、真鍮

電解

強アルカリ、リンフリー

ヘビーデュティー。オイル、グリース、指紋、バフカスの除去。キレート剤とウェット剤を含む。

TSC1500

鉄、非鉄金属

浸漬

強アルカリ性粉末

オイルとグリースの除去。寿命が長い。

TSC1501

鉄と鉛、錫及びその合金

浸漬

リン−アルカリ

オイルとグリースの除去。錫、鉛でスマット無し。

TSC1502

鉄と真鍮

浸漬

強アルカリ性粉末

クリナー。乳化維持力強い。バレルの油析出が無い。

TSC1508-L

鉄、非鉄金属

浸漬

強アルカリ性液

オイルとグリースの除去。石油溶剤不使用。鉛錫合金に使用可。超音波使用可。

テクニX-セル318

銅合金

浸漬、電解

粉末

酸化皮膜、軽微なオイルなどの除去。殆どのドライフィルムとスクリーニングレジストに対応。

さらに詳しい資料はこちらです(英文)

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2.表面活性化材(抜粋)

製品名

素材

処理法

性状

用途

UBL700

銅、銅合金

浸漬

無色透明の液体

数ミクロン程度の薄膜銅レイヤーの表面活性化に対応。銅表面を殆どエッチングせずに酸化皮膜を除去する。

ACT85

銅、銅合金表面

浸漬

強酸化性粉末(非フッ化物、非過水)

リードフレーム、PCB(ソフトエッチ、レジスト塗布の前処理)、コネククター、電子部品等の酸化被膜除去による表面活性化。

ACT100

銅、銅合金表面の銀、漏れ銀の剥離

電解

酸化液体

リードフレームの漏れ銀剥離、その他銀の剥離全般。銅、銅合金の表面活性化。

ACT7000

銅、銅合金全般、Si/Be含有銅合金対応(スマットフリー)

浸漬

非過水、非フッ化物の液体硫酸と混合して使用

銅表面の酸化皮膜の除去。銅表面を荒らさない。コネクター或いはリードフレ−ム内装のめっきの前処理。KLF125、オーリン7025、ベリ銅等のスマットの発生し易い銅合金の表面活性化等。

エレクトロポリッシュPME

銅、銅合金バリ取り。フラッシュ銀、金(漏れ銀、金)の除去

電解

酸化性粉末、非シアン系

表面研磨、バリ取り、漏れ銀(金)の除去。銅、鉄合金上に置換反応をしない。アルミをエッチしない。また、ニッケル、42材、ステンレスを殆どエッチしない。

ACT4000

42材

浸漬

粉末、硫酸混合

リードフレーム用表面活性化剤。

エレクトロ42

42材、ステンレスのエッチング

電解

非フッ化物、非過水

リードフレームの表面活性化。ステンレス表面エッチング。

さらに詳しい資料はこちらです(英文)

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3.めっき液(抜粋)

−1.金メッキ液(抜粋)

1.コネクター、電子部品用(抜粋)

製品名

処理法

備考

Techinspeed G:

電解

ニッケル系

ACR300

電解

ニッケル系、ハートコールト

TG300

電解

ニッケル系、蓚酸混合タイプ、粘度が低く持ち出しが少ない。

Techni-Gold 495

電解

ニッケル系、光沢仕上げ。

Orosene B

電解

コバルト系、鉛の影響に強い。

TG400

電解

コバルト系、蓚酸混合タイプ、粘度が低く持ち出しが少ない。

ACR434HS

電解

ソフトゴールド、蓚酸混合、Mil-G-45204C、III Grade-A

さらに詳しい資料はこちらです(英文)

2.セミコンダクター用(抜粋)

製品名

処理法

備考

Orosene

電解

コバルト系、Mil-G-45204C、I&II、Grade C

Orosene 80RC

電解

Oroseneのコンパチ、溶剤系と半水溶性ドライフィルムのコンタミに強い。

Orotemp

電解

24Kブライト金、Mil-G-45204C Grade A

Orotherm HT

電解

ニッケル系、高温対応、Mil-G-45204C、I&II、Grade C

Technispeed VG

電解

ニッケル系、高温対応、Mil-G-45204C、I&II、Grade C

ACR151

電解

レジストのコンタミに強い。Mil-G-45204C Grade A

TG25E

電解

非シアン系、、Mil-G-45204C Grade A

ACR434HS

電解

ソフトゴールド、蓚酸混合、Mil-G-45204C Grade A

Oromerse MN

置換

ニッケル或いは同情の置換金めっき。

Oromerse SO

置換

非シアン系置換金めっき(無電解ニッケル上、ウェハーで多用)

Oromerse SO-A

置換金

非シアン系、ナトリウムフリー置換金(ウェファー用)。

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−2.銀めっき液(抜粋)

製品名

処理法

備考

Techni-Silver EHS-3

電解

フリーシアンの濃度が低い、自動機用高速めっき。

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−3.パラジュームめっき液(抜粋)

製品名

処理法

備考

Palla Speed VHS

電解

光沢パラジューム。

Palladium Nickel VHS

電解

Pd20/Ni80の浴でPd80/Ni20のめっき皮膜を生成、Pdの自社再生が可能。

Techni Pd Activator

無電解

銅表面の活性化。

Techni Electroless Palladium

無電解

光沢無電解パラジューム、下地金属の使用範囲が広い。

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−4.銅めっき液(抜粋)

製品名

処理法

備考

FB Bright Acid copper

電解

PC用酸性銅めっき浴。単品添加剤。

ACR PC 65

電解

PC用酸性銅めっき浴。2液性添加剤。

Copper HS93

電解

PC自動機用高速銅めっき浴。単品添加剤 12ASD

Copper U

電解

装飾用光沢銅めっき浴

Copper U2

電解

装飾用光沢銅めっき浴、電流密度の範囲が大きい。

Copper FB Special

電解

高スローイングパワー+光沢

Copper R.R.

電解

リールtoリール用半光沢めっき液、2-10ASD

NF Copper

電解

メタンスルホン酸銅ベースの半光沢めっき液、5-22ASF

Copper GR196

電解

フルマット仕上げ。引っ張り強度に優れる。

Copper C

電解

半光沢シアン銅めっき浴。厚みがとれる。

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−5.ニッケルめっき液(抜粋)

製品名

処理法

備考

Technic Nickel S

電解

一般的なニッケルめっき液。

Technic Nickel W

電解

半光沢硫酸ニッケルめっき液、ワット浴の半光沢添加剤として使用可。

High Speed Nickel-Sulfamate FFP

電解

低ストレス、半光沢スルファミン酸高速ニッケル浴。

High Speed Nickel-Sulfate FFP

電解

高速硫酸ニッケル浴、PC端子めっき。

Techni Electroless Nickel

無電解

低リン〜高リンまで各種(Naフリー、テフロン混合液等)。

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−6.スズ・半田めっき液(抜粋)

製品名

処理法

備考

Techni Solder NF 72BC

電解

8-15ASD半導体中速機用、めっき圧のばらつきが少ない。

Techni Solder NF800HS

電解

不発泡、半導体中高速自動機用。

Techni Solder NF500HS

電解

不発泡、リールtoリール、広範囲の電流密度に対応。

Techni NF BHS

電解

鏡面光沢仕上、ラック、バレル対応。

Techni NF 93-B

電解

ライトグレー仕上、リフローで鏡面光沢化、ラック、バレル仕上。

Techni NF MTB

電解

日フッ酸系バレル用スズ、ライトグレー仕上、高スロイングパワー。

Stanomerse

置換

置換スズ。

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4.剥離剤(抜粋)

製品名

目的

処理法

性状

備考

テクニストリップ-Au

ニッケル、鉄、銀、銅上の金の剥離

浸漬

液体、シアン系浴

汎用品。

テクニストリップ-AuII

金剥離

浸漬

液体、シアン系浴

ウエファー上の金剥離にも使用されています。

ACR9025

ニッケル、ニッケル合金、鉄、コバール、ニッケル被覆銅からの金の剥離

浸漬

粉体、シアン系浴

銅或いは銅合金から金を剥離する場合はACR1030を使用ください。

ACR9030

銅、銅合金、銀、半田からの金の剥離

浸漬

粉体、シアン系浴

銅或いは銅合金からの金の剥離。下地を殆ど痛めない。

テクニエンパイロ銀剥離剤

殆ど全ての金属からの銀の剥離

電解

液体

非シアン、ノンキレート剤で環境にやさしい。室温で使用。下地を荒らさないので再めっきが可能。

ニッケル剥離剤BC-S

銅、銅合金からのニッケル剥離

浸漬

粉体

剥離後の再バフ工程の省略可。

BCニッケル剥離剤

銅、銅合金、鉄からのニッケルの剥離。

浸漬

アルカリ性液体

下地を殆どアタックしない。銅、銅合金ではスマット発生。シアン化カリ溶液で除去

ACR9050パラジューム剥離剤

銅、銅合金、ニッケル等よりパラジューム或いはPd-Ni被膜の剥離

浸漬

アルカリ性粉体

パラジューム及びパラジュームの電気めっき被膜の剥離に対応。下地を殆どアタックしない。

テクニソルダーM3剥離剤

ステンレス上の半田の剥離

浸漬

粉体

高速剥離。自動機の治具剥離に最適。

テクニレジスト剥離剤 RS100

水溶性、半水溶性ドライフィルムレジストとアルカリ可溶性スクリーンプリントインクの除去

浸漬

液体

金属エッチレジスト(スズ、半田を含む)に適応可能。フェノール、シリケート、フッ化物、リン化合物を含まず、廃水処理が容易。

テクニレジスト剥離剤 HS2

水溶性、半水溶性ドライフィルムレジストとアルカリ可溶性スクリーンプリントインクの高速除去

スプレー、浸漬

液体

スズ、半田をエッチしない。また、銅を酸化しない。

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5.その他薬品(抜粋)

製品名

目的

処理法

性状

備考

SBZ−コンディショナー

ウェハー上のアルミパッドのジンケート剤

浸漬

アルカリ性液体

シアンフリー上のジンケート剤。ウェハー上のアルミパッドに無電解ニッケルをめっきする際の前処理剤として使用。

デフラッシュPL

プラスチックの薄バリ除去

電解+、高圧水

弱アルカリ性液体

苛性ソーダを使わないので、作業環境を損ないません。

ターニバンNI

銅及びニッケルの140℃対応酸化防止剤

浸漬

ベントリ系に比較して実効耐熱温度が大幅に上昇しています。

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6.工業用めっき薬品(抜粋)

製品名

品位

備考

メタンスルホン−酸

MSA70%

MSA系スズ、半田、銅メッキ液の1成分。プレデップとしても使用可能。

メタンスルホン−酸スズ

MSAスズ、300gr/リットル、400gr/リットル

MSA系スズ、半田めっき浴のスズ成分。スズの濃度が高いので浴の調整がし易い。鉛濃度が10ppm以下であり、鉛フリーの完全化に対応。

低アルファ線メタンスルホン酸鉛

MSA鉛、500gr/リットル

半導体用。

メタンスルホン−酸鉛

MSA鉛500gr/リットル

半田めっき液の鉛成分。鉛濃度が高いので浴の調整がし易い。

スルファミン酸−ニッケル

180gr/リットル

ニッケルの濃度が高いので浴の調整がし易い。

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7.その他アプローチ(抜粋)

製品名

セミコンダクター

プリント基板

エレクトロニクス

一般めっき

装飾
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