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テクニック社は、1945年に米国東海岸のロードアイランド州を中心とする装飾めっき業界向けに、貴金属めっき薬品を供給することからスタートしました。その後の電子産業の急速な発達と共に、今日ではセミコンダクター向け各種めっき薬品をはじめ、PCB、コネクター、その他電子部品等の表面処理に関わる多様な薬品をカバーする、総合表面処理薬品メーカに成長することが出来ました。本ホームページではテクニック社の膨大な薬品群から抜粋して概略を御紹介いたします。なお、抜粋中にご要望のプロセス或いは薬品が見当たらない場合或いは開発が必要な場合はinfo@technic-japan.co.jp或いは資料請求フォームにてご連絡下さい。
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製品名 |
素材 |
処理法 |
性状 |
用途と特徴 |
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TEC1001 |
銅、真鍮、鉄 |
電解 |
高伝導性クリナー、軽い汚れの除去。 | |
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TEC1002 |
金属全般 |
電解、浸漬 |
強アルカリ性粉末 |
汚れ全般の除去。 |
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TEC1004AD |
銅、真鍮、鉛、鉛錫合金、鉄 |
PR電解、浸漬 |
強アルカリ性粒 |
長寿命。低温処理。活性化と同時にスマット、サビ、熱スケール及びバフカスの除去。 |
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TEC1005 |
鉄 |
電解 |
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高速、高導電性デイスケール剤。 |
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TEC1008 |
銅、真鍮 |
浸漬、電解 |
リン−アルカリ |
水洗が簡単なクリナー。 |
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TEC1010LF |
鉄、銅、真鍮 |
電解 |
リン−アルカリ |
低発泡。酸化物、オイル及びバフカスの除去。 |
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TEC1011 |
鉄、銅、真鍮 |
電解 |
強アルカリ、リンフリー |
ヘビーデュティー。オイル、グリース、指紋、バフカスの除去。キレート剤とウェット剤を含む。 |
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TSC1500 |
鉄、非鉄金属 |
浸漬 |
強アルカリ性粉末 |
オイルとグリースの除去。寿命が長い。 |
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TSC1501 |
鉄と鉛、錫及びその合金 |
浸漬 |
リン−アルカリ |
オイルとグリースの除去。錫、鉛でスマット無し。 |
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TSC1502 |
鉄と真鍮 |
浸漬 |
強アルカリ性粉末 |
クリナー。乳化維持力強い。バレルの油析出が無い。 |
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TSC1508-L |
鉄、非鉄金属 |
浸漬 |
強アルカリ性液 |
オイルとグリースの除去。石油溶剤不使用。鉛錫合金に使用可。超音波使用可。 |
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テクニX-セル318 |
銅合金 |
浸漬、電解 |
粉末 |
酸化皮膜、軽微なオイルなどの除去。殆どのドライフィルムとスクリーニングレジストに対応。 |
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製品名 |
素材 |
処理法 |
性状 |
用途 |
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UBL700 |
銅、銅合金 |
浸漬 |
無色透明の液体 |
数ミクロン程度の薄膜銅レイヤーの表面活性化に対応。銅表面を殆どエッチングせずに酸化皮膜を除去する。 |
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ACT85 |
銅、銅合金表面 |
浸漬 |
強酸化性粉末(非フッ化物、非過水) |
リードフレーム、PCB(ソフトエッチ、レジスト塗布の前処理)、コネククター、電子部品等の酸化被膜除去による表面活性化。 |
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ACT100 |
銅、銅合金表面の銀、漏れ銀の剥離 |
電解 |
酸化液体 |
リードフレームの漏れ銀剥離、その他銀の剥離全般。銅、銅合金の表面活性化。 |
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ACT7000 |
銅、銅合金全般、Si/Be含有銅合金対応(スマットフリー) |
浸漬 |
非過水、非フッ化物の液体硫酸と混合して使用 |
銅表面の酸化皮膜の除去。銅表面を荒らさない。コネクター或いはリードフレ−ム内装のめっきの前処理。KLF125、オーリン7025、ベリ銅等のスマットの発生し易い銅合金の表面活性化等。 |
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エレクトロポリッシュPME |
銅、銅合金バリ取り。フラッシュ銀、金(漏れ銀、金)の除去 |
電解 |
酸化性粉末、非シアン系 |
表面研磨、バリ取り、漏れ銀(金)の除去。銅、鉄合金上に置換反応をしない。アルミをエッチしない。また、ニッケル、42材、ステンレスを殆どエッチしない。 |
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ACT4000 |
42材 |
浸漬 |
粉末、硫酸混合 |
リードフレーム用表面活性化剤。 |
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エレクトロ42 |
42材、ステンレスのエッチング |
電解 |
非フッ化物、非過水 |
リードフレームの表面活性化。ステンレス表面エッチング。 |
−1.金メッキ液(抜粋)
1.コネクター、電子部品用(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Techinspeed G: |
電解 |
ニッケル系 |
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ACR300 |
電解 |
ニッケル系、ハートコールト |
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TG300 |
電解 |
ニッケル系、蓚酸混合タイプ、粘度が低く持ち出しが少ない。 |
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Techni-Gold 495 |
電解 |
ニッケル系、光沢仕上げ。 |
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Orosene B |
電解 |
コバルト系、鉛の影響に強い。 |
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TG400 |
電解 |
コバルト系、蓚酸混合タイプ、粘度が低く持ち出しが少ない。 |
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ACR434HS |
電解 |
ソフトゴールド、蓚酸混合、Mil-G-45204C、III Grade-A |
2.セミコンダクター用(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Orosene |
電解 |
コバルト系、Mil-G-45204C、I&II、Grade C |
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Orosene 80RC |
電解 |
Oroseneのコンパチ、溶剤系と半水溶性ドライフィルムのコンタミに強い。 |
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Orotemp |
電解 |
24Kブライト金、Mil-G-45204C Grade A |
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Orotherm HT |
電解 |
ニッケル系、高温対応、Mil-G-45204C、I&II、Grade C |
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Technispeed VG |
電解 |
ニッケル系、高温対応、Mil-G-45204C、I&II、Grade C |
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ACR151 |
電解 |
レジストのコンタミに強い。Mil-G-45204C Grade A |
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TG25E |
電解 |
非シアン系、、Mil-G-45204C Grade A |
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ACR434HS |
電解 |
ソフトゴールド、蓚酸混合、Mil-G-45204C Grade A |
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Oromerse MN |
置換 |
ニッケル或いは同情の置換金めっき。 |
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Oromerse SO |
置換 |
非シアン系置換金めっき(無電解ニッケル上、ウェハーで多用) |
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Oromerse SO-A |
置換金 |
非シアン系、ナトリウムフリー置換金(ウェファー用)。 |
−2.銀めっき液(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Techni-Silver EHS-3 |
電解 |
フリーシアンの濃度が低い、自動機用高速めっき。 |
−3.パラジュームめっき液(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Palla Speed VHS |
電解 |
光沢パラジューム。 |
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Palladium Nickel VHS |
電解 |
Pd20/Ni80の浴でPd80/Ni20のめっき皮膜を生成、Pdの自社再生が可能。 |
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Techni Pd Activator |
無電解 |
銅表面の活性化。 |
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Techni Electroless Palladium |
無電解 |
光沢無電解パラジューム、下地金属の使用範囲が広い。 |
−4.銅めっき液(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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FB Bright Acid copper |
電解 |
PC用酸性銅めっき浴。単品添加剤。 |
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ACR PC 65 |
電解 |
PC用酸性銅めっき浴。2液性添加剤。 |
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Copper HS93 |
電解 |
PC自動機用高速銅めっき浴。単品添加剤 12ASD |
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Copper U |
電解 |
装飾用光沢銅めっき浴 |
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Copper U2 |
電解 |
装飾用光沢銅めっき浴、電流密度の範囲が大きい。 |
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Copper FB Special |
電解 |
高スローイングパワー+光沢 |
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Copper R.R. |
電解 |
リールtoリール用半光沢めっき液、2-10ASD |
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NF Copper |
電解 |
メタンスルホン酸銅ベースの半光沢めっき液、5-22ASF |
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Copper GR196 |
電解 |
フルマット仕上げ。引っ張り強度に優れる。 |
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Copper C |
電解 |
半光沢シアン銅めっき浴。厚みがとれる。 |
−5.ニッケルめっき液(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Technic Nickel S |
電解 |
一般的なニッケルめっき液。 |
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Technic Nickel W |
電解 |
半光沢硫酸ニッケルめっき液、ワット浴の半光沢添加剤として使用可。 |
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High Speed Nickel-Sulfamate FFP |
電解 |
低ストレス、半光沢スルファミン酸高速ニッケル浴。 |
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High Speed Nickel-Sulfate FFP |
電解 |
高速硫酸ニッケル浴、PC端子めっき。 |
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Techni Electroless Nickel |
無電解 |
低リン〜高リンまで各種(Naフリー、テフロン混合液等)。 |
−6.スズ・半田めっき液(抜粋)
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製品名 |
処理法 |
備考 |
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Techni Solder NF 72BC |
電解 |
8-15ASD半導体中速機用、めっき圧のばらつきが少ない。 |
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Techni Solder NF800HS |
電解 |
不発泡、半導体中高速自動機用。 |
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Techni Solder NF500HS |
電解 |
不発泡、リールtoリール、広範囲の電流密度に対応。 |
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Techni NF BHS |
電解 |
鏡面光沢仕上、ラック、バレル対応。 |
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Techni NF 93-B |
電解 |
ライトグレー仕上、リフローで鏡面光沢化、ラック、バレル仕上。 |
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Techni NF MTB |
電解 |
日フッ酸系バレル用スズ、ライトグレー仕上、高スロイングパワー。 |
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Stanomerse |
置換 |
置換スズ。 |
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製品名 |
目的 |
処理法 |
性状 |
備考 |
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テクニストリップ-Au |
ニッケル、鉄、銀、銅上の金の剥離 |
浸漬 |
液体、シアン系浴 |
汎用品。 |
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テクニストリップ-AuII |
金剥離 |
浸漬 |
液体、シアン系浴 |
ウエファー上の金剥離にも使用されています。 |
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ACR9025 |
ニッケル、ニッケル合金、鉄、コバール、ニッケル被覆銅からの金の剥離 |
浸漬 |
粉体、シアン系浴 |
銅或いは銅合金から金を剥離する場合はACR1030を使用ください。 |
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ACR9030 |
銅、銅合金、銀、半田からの金の剥離 |
浸漬 |
粉体、シアン系浴 |
銅或いは銅合金からの金の剥離。下地を殆ど痛めない。 |
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テクニエンパイロ銀剥離剤 |
殆ど全ての金属からの銀の剥離 |
電解 |
液体 |
非シアン、ノンキレート剤で環境にやさしい。室温で使用。下地を荒らさないので再めっきが可能。 |
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ニッケル剥離剤BC-S |
銅、銅合金からのニッケル剥離 |
浸漬 |
粉体 |
剥離後の再バフ工程の省略可。 |
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BCニッケル剥離剤 |
銅、銅合金、鉄からのニッケルの剥離。 |
浸漬 |
アルカリ性液体 |
下地を殆どアタックしない。銅、銅合金ではスマット発生。シアン化カリ溶液で除去 |
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ACR9050パラジューム剥離剤 |
銅、銅合金、ニッケル等よりパラジューム或いはPd-Ni被膜の剥離 |
浸漬 |
アルカリ性粉体 |
パラジューム及びパラジュームの電気めっき被膜の剥離に対応。下地を殆どアタックしない。 |
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テクニソルダーM3剥離剤 |
ステンレス上の半田の剥離 |
浸漬 |
粉体 |
高速剥離。自動機の治具剥離に最適。 |
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テクニレジスト剥離剤 RS100 |
水溶性、半水溶性ドライフィルムレジストとアルカリ可溶性スクリーンプリントインクの除去 |
浸漬 |
液体 |
金属エッチレジスト(スズ、半田を含む)に適応可能。フェノール、シリケート、フッ化物、リン化合物を含まず、廃水処理が容易。 |
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テクニレジスト剥離剤 HS2 |
水溶性、半水溶性ドライフィルムレジストとアルカリ可溶性スクリーンプリントインクの高速除去 |
スプレー、浸漬 |
液体 |
スズ、半田をエッチしない。また、銅を酸化しない。 |
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製品名 |
目的 |
処理法 |
性状 |
備考 |
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SBZ−コンディショナー |
ウェハー上のアルミパッドのジンケート剤 |
浸漬 |
アルカリ性液体 |
シアンフリー上のジンケート剤。ウェハー上のアルミパッドに無電解ニッケルをめっきする際の前処理剤として使用。 |
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デフラッシュPL |
プラスチックの薄バリ除去 |
電解+、高圧水 |
弱アルカリ性液体 |
苛性ソーダを使わないので、作業環境を損ないません。 |
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ターニバンNI |
銅及びニッケルの140℃対応酸化防止剤 |
浸漬 |
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ベントリ系に比較して実効耐熱温度が大幅に上昇しています。 |
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製品名 |
品位 |
備考 |
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メタンスルホン−酸 |
MSA70% |
MSA系スズ、半田、銅メッキ液の1成分。プレデップとしても使用可能。 |
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メタンスルホン−酸スズ |
MSAスズ、300gr/リットル、400gr/リットル |
MSA系スズ、半田めっき浴のスズ成分。スズの濃度が高いので浴の調整がし易い。鉛濃度が10ppm以下であり、鉛フリーの完全化に対応。 |
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低アルファ線メタンスルホン酸鉛 |
MSA鉛、500gr/リットル |
半導体用。 |
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メタンスルホン−酸鉛 |
MSA鉛500gr/リットル |
半田めっき液の鉛成分。鉛濃度が高いので浴の調整がし易い。 |
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スルファミン酸−ニッケル |
180gr/リットル |
ニッケルの濃度が高いので浴の調整がし易い。 |
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製品名 |
| セミコンダクター |
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プリント基板 |
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エレクトロニクス |
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一般めっき |
| 装飾 |
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